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就在今天!CadenceTECHTALK:如何解决 FinFET 先进工艺下模拟后端版图设计面临的挑战
2022-05-12

Cadence 诚邀您报名即将于 2022 年 5月12 日线上举行的 CadenceTECHTALK:如何解决 FinFET 先进工艺下模拟后端版图设计面临的挑战。

  • 什么是 FinFET 工艺?
  • 为什么 IC 设计越来越多的转向 FinFET 工艺?
  • 作为模拟 IC 设计人员,FinFET 工艺给我们带来了哪些挑战,又该如何应对?


会议就在今天!

快来报名!与 Cadence 的技术专家探讨 Cadence 解决方案。


演讲主题

如何解决 FinFET 先进工艺下模拟后端版图设计面临的挑战


会议时间

2022 年 05 月 12 日 14:00 – 15:00


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会议形式

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演讲者

张慧丽 (Amy Zhang)

Sr Principal Application Engineer

拥有 18 年模拟 IC 设计与 EDA 从业经验。负责 Cadence Virtuoso 后端版图设计平台及物理验证工具的技术推广与支持,为客户 IC 设计及验证所使用的 EDA 软件流程提供支持和解决方案。在模拟及混合信号 IC 设计流程及 FinFET 先进工艺的应用领域拥有丰富的经验和技术积累。


快来报名吧~ Cadence 期待您的到来!


(文章来源公众号: Cadence楷登)